С 2012 года по начало 2026 года китайские производители микросхем накопили около 343 иммерсионных DUV-литографических установок. Многие из них подходят для выпуска чипов по технологиям 7-нм класса. Такую оценку приводит Centre for Technology & Statecraft (CTS). По данным центра, технологию DUVi можно приспособить и для производства памяти HBM.[1][2][3]
Как пишет Tom's Hardware со ссылкой на доклад, 270 из этих установок составляют сканеры ASML Twinscan NXT:1980i. У них разрешение 38 нм и точность совмещения слоёв 2,5 нм, которая нужна для мультипаттернинга на узлах 7-нм класса. По данным CTS, у китайских фабрик есть ещё 22 системы NXT:2050i и шесть NXT:2000i. Источники по-разному толкуют эти цифры. В пересказе South China Morning Post от ASML поступили лишь около 270 из 343 установок. По версии Tom's Hardware, все 343 машины сделаны ASML, а 270 приходится только на модель NXT:1980i.[4][5][6]
CTS оценивает, что в 2024 году китайские фабрики купили около 90 сканеров NXT:1980i, а в 2025 году ещё 89 и потратили на них за два года более 13 млрд долларов. Tom's Hardware отмечает, что по опубликованной финансовой отчётности ASML эти цифры независимо проверить нельзя. Сама ASML сообщала, что на Китай пришлось 41% её поставок систем в 2024 году и 33% в 2025 году. В первом квартале 2026 года доля снизилась до 19%, во втором до 14%.[7][8][9][10]
В сентябре 2023 года власти Нидерландов ввели лицензии на экспорт сканеров NXT:2000i и более мощных моделей, и это фактически перекрыло их поставки в Китай. В сентябре 2024 года ограничения распространили на NXT:1980i, однако отдельные поставки этой модели по-прежнему могут одобрить. Авторы доклада считают, что в контроле остаётся брешь: оборудование, закупленное для менее передовых техпроцессов, можно перевести на узлы 7-нм класса, которые индустрия освоила в 2018–2019 годах.[11][12][13]
Авторы доклада предлагают полностью запретить экспорт иммерсионных DUV-систем в Китай, а также ограничить поставки запчастей и обслуживание машин, уже работающих на передовых фабриках.[14]
По материалам
Текст составлен ИИ по материалам ниже и не содержит фактов, которых нет в источниках.
Chinese chipmakers have accumulated an estimated 343 immersion DUV lithography chipmaking tools from 2012 to early 2026, many of which can be used to make chips using 7nm-class process technologies, according to a report from the Centre for Technology & Statecraft (CTS).
CTS claims that 270 of these immersion DUV tools are ASML's Twinscan NXT:1980i scanners featuring a 38nm resolution and a 2.5nm matched-machine overlay capability crucial for multipatterning for 7nm-class nodes, which can be used to make chips using 7nm-class fabrication technologies.
CTS now estimates that Chinese fabs purchased approximately 90 NXT:1980i scanners in 2024 and another 89 units in 2025, spending more than $13 billion during the two-year period.
One should keep in mind that the CTS numbers — ~90 NXT:1980i systems in 2024 and 89 in 2025 — cannot be independently reconstructed from ASML's published financial data.
Dutch authorities introduced licensing requirements for exports of ASML's NXT:2000i and more capable immersion DUV scanners in September 2023, which effectively prevents their shipment to China.
The authors of the report claim that the existing export controls leave an important gap because lithography equipment originally acquired for less advanced process technologies can potentially be reassigned for more sophisticated process technologies, such as 7nm-class nodes (which the industry adopted in 2018 – 2019).
They propose to prohibit exports of all immersion DUV systems to China and restrict replacement components and maintenance services for machines installed at advanced fabs, a proposal consistent with the bipartisan MATCH Act introduced in April.
