Нидерландская ASML вместе с немецким производителем оптики Carl Zeiss начала разрабатывать литографическую систему нового поколения Hyper NA, сообщает iXBT.com. По данным издания, на создание технологии может уйти около десяти лет.[1][2]
Тот же срок называют сами разработчики. По сведениям 3DNews, инженеры ASML и Carl Zeiss написали в рецензируемой статье, что преемник самой передовой технологии ASML для производства микросхем может появиться примерно через десять лет.[3]
По данным iXBT.com, от Hyper NA ждут более мелких элементов микросхем, чем позволяют нынешние установки с высокой числовой апертурой (High-NA EUV). Потенциально система сможет работать со структурами размером около 5 нм, а разрешение вырастет более чем на треть по сравнению с действующим оборудованием.[4][5]
Часть работы уже идёт. Carl Zeiss, как пишет iXBT.com, разрабатывает зеркала с точностью, нужной для Hyper NA. ASML рассчитывает взять часть существующих решений, в том числе источник света, чтобы не перестраивать систему освещения с нуля.[6][7]
Проект пока на ранней стадии. Окончательного решения о запуске производства оборудования компания не приняла.[2]
Нидерландская ASML совместно с немецким производителем оптики Carl Zeiss приступила к разработке литографической системы нового поколения под названием Hyper NA.
На создание технологии может уйти около десяти лет. Пока проект находится на ранней стадии, и компания не приняла окончательного решения о запуске производства оборудования.
Преемник самой передовой технологии ASML для производства микросхем может появиться примерно через десять лет — об этом написали в рецензируемой статье инженеры нидерландской компании, а также сотрудники поставляющей ей оптику фирмы Carl Zeiss.
Потенциально система сможет работать со структурами размером около 5 нм, а разрешение вырастет более чем на треть относительно возможностей нынешнего оборудования.
